電子工程專輯

微反射鏡非光罩光刻方法引起美國防機構研發興趣

由Semiconductor Research(SRC)公司及美國國防先進研究計畫局組織(Defense Advanced Research Projects Agency)的Low Volume Patterning Workshop預計將討論採用微反射鏡陣列(arrays of micromirrors)的非光罩光刻(maskless lithography)方法所存在的技術挑戰，以及將政府及獨立研究成果相結合的展示計畫之可行性

請登陸或註冊網站閱讀全文>>

還未註冊? 快速註冊成為電子工程專輯用戶

電子信箱：
密碼：
確認密碼：
公司名：
工作性質：
產品和服務：

點擊此處填寫完整註冊信息，即可免費訂閱電子工程專輯信息速遞，並在線申請訂閱雜誌。

已經註冊? 登錄閱覽全部精彩內容

電子信箱：
密碼：
	登入密碼區分大小寫
	記住我的密碼忘記密碼

	如果您已經是電子工程專輯旗下網站的註冊用戶，請使用您原有的註冊帳號登入，無須再次註冊
電子工程專輯旗下網站：電子工程專輯印度版電子工程專輯英文版電子工程專輯韓文版電子工程專輯簡體中文版模擬混合信號電源系統 Embedded Design India Power Design India 家用娛樂系統手持電子設備工業控制汽車電子設計

如果您已經是電子工程專輯旗下網站的註冊用戶，請使用您原有的註冊帳號登入，無須再次註冊

電子工程專輯旗下網站：

	最新信息
LDRA工具整合Lauterbach debugger (2008-12-02) Avago GPS射頻模組內含FBAR濾波器 (2008-12-02) 通嘉推新款PWM調光LED驅動器 (2008-12-02) 安捷倫推USB 3.0實體層相容測試軟體 (2008-12-02) 採用ProASIC3系列元件升級設計時的注意事項 (2008-12-02) 多環系統中的穩定性分析 (2008-12-02) 在使用多元件與多頻率時實現相位同步 (2008-12-02) Novell推出GroupWise 8正式版 (2008-12-02)

專題總匯

• 設計揭密

• 設計技巧

• 關鍵數據

• 線上專題

• 技術廣角

• 下載中心

• 活動訊息

• 展會報導

熱門關鍵字

• RFID

• 數位相框

• gphone

• LED

• WiMax

• MEMS

• 太陽能電池

eMedia Asia	EE Times - Asia\|EE Times - India\|\|
環球資源	\|\|\|Electronic Components\|Computer Products\|Trade Show Center
TechInsights	EE Times\|ESM Online\|EE Times JAPAN