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聯電使用無鉻膜相位移光罩微影技術量產晶圓


聯華電子(UMC)上週宣佈開始使用無鉻膜相位移光罩(Chromeless Phase-shift Mask，Cr-less PSM)微影技術，並已成功地在90奈米製程量產客戶之功能性產品。該公司表示，由於成果優異，故將導入Cr-less PSM光罩技術及193nm光學掃描機進行65奈米世代製程研發。

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