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科磊推90奈米及以下製程之原子力顯微鏡線上監視方案


科磊(KLA-Tencor)的AF-LM 300是一套針對溝槽深度以及平坦化製程表面檢驗所推出的線上監視解決方案。該產品以原子力顯微鏡(atomic force microscopy,AFM)為基礎,作業量比傳統AFM提高許多,能讓晶片製造商在90與65奈米環境中支援100%的採樣率,提供更嚴密的製程監視效果。

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