電子工程專輯

用戶登錄

Cymer推出適用於浸入式微影的準分子光源

深紫外線光源供應商Cymer公司日前推出一種準分子光源XLA 200，該產品適用於45nm製造製程的浸入式微影技術，該產品是首個此類光源，採用了帶氟化氬(ArF)光源的主振盪器功率放大器

請登陸網站閱讀全文>>

	如果您已經是電子工程專輯旗下網站的註冊用戶，請使用您原有的註冊帳號登入，無須再次註冊
電子工程專輯旗下網站：電子工程專輯印度版電子工程專輯英文版電子工程專輯韓文版電子工程專輯簡體中文版模擬混合信號手機設計電源系統媒體播放器 Embedded Design India Power Design India 家用娛樂系統工業控制汽車電子設計

如果您已經是電子工程專輯旗下網站的註冊用戶，請使用您原有的註冊帳號登入，無須再次註冊

電子工程專輯旗下網站：

專題總匯

• 設計揭密

熱門關鍵字

• RFID

• gphone

• LED

• WiMax

• MEMS

eMedia Asia	EE Times - Asia\|EE Times - India\|\|
環球資源	\|\|\|Electronic Components\|Computer Products\|Trade Show Center\|China Sourcing Fairs
TechInsights	EE Times\|ESM Online