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羅門哈斯為low-K 90奈米應用推出最佳化阻擋層研磨液


羅門哈斯電子材料公司(Rohm and Hass electronic Materials)近日推出為90nm low-k半導體裝置作化學機械研磨而設的新系列最佳化非酸性阻擋層研磨液。LK系列阻擋層研磨液能容納範圍廣泛的整合規劃，且可提供卓越的彈性與高效能。這類研磨液目前正在經受鑒定，在多個客戶的設施處進行試驗，其中包括邏輯設施製造商。

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