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iSuppli：第二季晶圓廠設備利用率達到高峰　隨後將下降

市調公司iSuppli表示，全球晶圓廠的設備利用率在2004年第二季達到了頂點，隨後因新增產能的加入，預計將在未來幾季內趨於下降趨勢，該機構的研究主管Joe D'Elia在由無晶圓廠半導體協會(FSA)和電氣工程師學會(Institution of Electrical Engineers)組織的一個會議上，提出了幾份設備利用率資料

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