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科磊與IMEC合作發展65奈米以下微影製程控制方案

KLA-Tencor近日與比利時IMEC宣佈一項合作開發專案(JDP)，將使業界在新一代(65奈米與以下)半導體應用中加速採納光學線寬(CD)量測技術。IMEC將採納KLA-Tencor的SpectraCD 100系統作為此研發專案的光學線寬量測工具。

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