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FSI針對65奈米發佈PlatNiStrip製程


FSI International日前發佈全新的鎳鉑去除製程(nickel-platinum strip process)，能在65奈米技術節點建置自我對準金屬矽化結構(salicide formation)。FSI是利用其ZETA噴霧清洗設備開發出新的PlatNiStrip製程，已經與多家半導體廠商合作利用65奈米試產晶片驗證新製程。

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