用戶登錄 首頁 / 用戶登錄

90奈米技術規則多 專家提出良率最佳化方案


在朝90奈米及更先進技術邁進的過程中,設計團隊與製程工程師們面臨著哪些挑戰?又應該如何因應這些挑戰呢?這是日前在美國加州舉辦的國際電子設計品質研討會(International Symposium on Quality Electronic Design,ISQED)上,與會演講者主要探討的問題。

請登陸網站閱讀全文>>


如果您已經是電子工程專輯旗下網站的註冊用戶,請使用您原有的註冊帳號登入,無須再次註冊

電子工程專輯旗下網站:

最新信息

專題總匯
 •   設計揭密
 •   設計技巧
 •   關鍵數據
 •   線上專題
 •   技術廣角
 •   下載中心
 •   活動訊息
 •   展會報導

熱門關鍵字
 •   RFID
 •   數位相框
 •   gphone
 •   LED
 •   WiMax
 •   MEMS
 •   太陽能電池
返回頁首