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科磊將微影覆蓋控制擴展至65奈米

科磊(KLA-Tencor)最新針對65奈米節點以下微影覆蓋控制需求，推出了覆蓋度量解決方案Archer AIM+系統。該系統以Archer工具平台為基準，與上一代Archer AIM相比，在覆蓋度量效能的主要標準－－總測量不確定度(TMU)方面可減少50%，加工生產能力則提昇20%。

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