Micronic新款雷射光罩圖形描繪機適用高階製程


雷射光罩圖形描繪機供應商Micronic Laser Systems宣佈推出Sigma7500系統，該系統可應用於90、65和45奈米製程技術，包括二元光罩和相位移光罩(PSM)皆在支援範圍，並新增能量散佈補償(Energy Spread Compensation)和ProcessEqualizer良率提升功能，可補償非均勻光罩製程(non-uniform mask process)等誤差。