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技術突破讓EUV可望成為下一代晶片加工技術


德國Xtreme Technologies GmbH日前宣稱在提高EUV光源的功率輸出上超越了目標，以尋求將甚EUV微影導入到晶片製造。Xtreme聲稱在原理實驗中，從計畫一開始的大約120瓦，研製出800瓦功率的EUV光源。對於量產中的EUV，功率輸出到2010年左右必須要達到接近1千瓦。

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