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NEC的55奈米製程可製造出超低功耗LSI

NEC Electronics日前宣佈開發出名為UX7LS的55奈米製程，採用了浮出微影(emersion lithography)和更高介電常數材料。該公司聲稱，此一製程可提供比65奈米製程在作業和待機模式下少了十分之一的功耗。

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