| KLA-Tencor針對65奈米以下製程發表顯影校準平台 |
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KLA-Tencor發表新款顯影校準平台(lithography correctables platform)──K-T Analyzer，號稱能提供全自動化的覆蓋與關鍵尺寸(CD)度量資料的工具分析，以加速並改善進階顯影單元的限定與控制。該產品並可將原始的顯影效能資料，即時轉換成關鍵業務的資訊，協助晶圓廠達成高良率與可靠的微影製程。
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