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[ 2008年7月7日 ]


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大幅提升晶片良率的最新測試方法學

在奈米設計時代，可製造性設計(DFM)方法在提高良率方面中已經佔據了中心地位。為了實現更高的良率，人們在初始設計和製造過程本身採用了各種技術。由於採用了DFM規則，驗證這些技術的有效性就至關重要。新的測試方法學重點是識別故障機制，因而提供使測量取得成功的有價值的反饋鏈。這些方法學使故障診斷更為有效，因而縮短良率提高週期。

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