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Novellus推出新款12吋晶圓光阻去除系統


諾發系統(Novellus Systems)為12吋晶圓製程推出乾式光阻去除系統(photoresist dry strip)最新產品GAMMA Express。GAMMA Express是同時適用於前段(FEOL)和後段(BEOL)製程的單一產品平台，它為65nm和45nm節點普通光阻去除和高劑量離子注入光阻去除(HDIS)提供了高水準的技術、可靠性和生產力。

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