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Entegris新型過濾產品可滿足65nm/45nm製程需求

Entegris宣佈推出其全新Intercept Plus HPM過濾產品。該公司表示，Intercept技術已獲專利，是半導體產業中唯一採用雙效微粒捕獲技術的過濾器，能使微粒截除效果極大化，縮短製程啟動時間，改善製程能力，並降低晶片缺陷。

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