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[ 2008年7月25日 ]

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用於可製造性設計的良率分析

可製造性設計在半導體產業奈米設計流程方法學中已變得越來越重要。在過去的設計中，設計師只有在他們設計投片後才能確定製造的良率。但由於存在其他的缺陷機制，隨著製程節點的演進和設計複雜度的增加，良率具有不斷下降的趨勢，因此目前在設計階段就要考慮良率問題。

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