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[ 2008年7月9日 ]


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KLA-Tencor新型光學疊對量測系統支援45奈米製程

KLA-Tencor推出Archer 100光學疊對量測系統(optical overlay metrology system)，新款45奈米製程工具在設計上可明顯增加浸潤式微影與未來雙圖樣微影技術(double patterning lithography technologies)的準確性與生產能力。

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