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台積電45奈米製程預計九月完成驗證並開始量產

台積電(TSMC)預計於今年九月即可完成45奈米製程驗證並開始為客戶生產產品，此一製程結合了最先進的193奈米浸潤式曝光顯影製程、大幅增進晶片效能的應變矽晶(Silicon strains)以及超低介電係數(Extreme low-k dielectric，ELK)元件連接材料等競爭優勢。該公司並同時宣佈推出全套45奈米製程設計支援服務。

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