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EUV進展緩慢　Intel轉向支持反向微影技術

由於超紫外光微影技術(extreme ultraviolet，EUV)的發展遲緩，英特爾(Intel)透露該公司正在開發一種可能將光學掃描機(optical scanners)擴展到22奈米製造節點的可製造性設計(DFM)方法。

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