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IMEC研發32奈米製程應用兩次圖形曝光技術

比利時研究機構IMEC宣佈在32奈米微影(lithography)技術方面取得進展，並指出兩次圖形曝光(double patterning)技術可望在其他技術就位之前，成為過渡的解決方案。

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