Novellus為193nm微影開發VECTOR AHM技術
作者:Joy Teng

諾發系統(Novellus)稍早前發佈了VECTOR Express電漿輔助化學氣相沉積(PECVD)系統的新一代版本──VECTOR Extreme，據稱可將每小時產量提高250片，是專門針對需要極大產量的DRAM或快閃記憶體製程所設計。另外，該公司也宣佈，已針對45奈米及以下製程所需的193奈米浸潤式微影技術，推出了VECTOR Ashable Hard Mask (AHM)平台。