登錄電子工程專輯網站，時刻處於電子設計的潮流尖端 .

Global sources

Electronic Engineering Times

首頁 |

登錄 | 現在註冊

[ 2008年7月25日 ]

產品新知 | 新聞和趨勢 | 技術文庫 | 應用實例 | 電子工程人物 | 電子工程辭典 | 技術專刊 | 研究報告 | 論壇 | 本期雜誌 | 線上研討會

EDA/IC設計 | 製程/製造 | 測試/封裝 | 感測技術 | 放大/調節/轉換 | RF/無線 | 數位訊號處理 | 控制技術 | 網路設計

介面設計 | 緩衝/儲存技術 | 功率設計 | EMI/EMC設計 | 光電及顯示技術 | 嵌入式設計 | 可程式邏輯 | 安全設計 | 設計測試


用戶登錄	首頁 / 用戶登錄

在100nm以下製程提高參數良率的設計規則

設計師在針對100nm以下製程進行設計時，必須考慮參數對製造良率的影響。為了解決新的製程-設計交互問題，需要能夠促成製造商和設計師合作的框架。這種框架必須首先提供特徵化方案以獲取製程與設計良率改善所必須的數據。本文將討論影響良率的參數問題以及改善參數良率的方法。

請登陸網站閱讀全文>>

電子信箱

密碼

登入密碼區分大小寫

記住我的密碼忘記密碼?

如果您已經是電子工程專輯旗下網站的註冊用戶，請使用您原有的註冊帳號登入，無須再次註冊

電子工程專輯旗下網站：

• 電子工程專輯英文版 • 電子工程專輯印度版 • 電子工程專輯簡體中文版 • 電子工程專輯韓文版
• 手機設計 • 汽車電子設計 • 媒體播放器 • 電源系統
• 工業控制 • 模擬混合信號 • 家用娛樂系統 • Embedded Design India
• Power Design India

最新信息

•
產學合作　NI與台大打造數位虛擬實驗室 (2008-07-25)

•
Supple打造個人化使用者介面 (2008-07-25)

•
牛津半導體推出NAS和DAS晶片解決方案平台 (2008-07-25)

•
Wind River發表可延展的分散式測試自動化方案 (2008-07-25)

•
完全隔離型表面安裝RS-232收發器單晶片 (2008-07-25)

•
日立數據系統獲SAP整合認證 (2008-07-25)

•
Maxim推出高壓、高速MOSFET驅動器 (2008-07-25)

•
IIC-Twian：MontaVista推三版本Linux (2008-07-25)

專題總匯

• 設計揭密

• 設計技巧

• 關鍵數據

• 線上專題

• 技術廣角

• 下載中心

• 活動訊息

• 展會報導

熱門關鍵字

• RFID

• 數位相框

• gphone

• LED

• WiMax

• MEMS

• 太陽能電池

eMedia Asia	EE Times - Asia \| EE Times - India \| \| \| IIC-Taiwan
環球資源	\| \| \| Electronic Components \| Computer Products \| Trade Show Center \| China Sourcing Fairs
TechInsights	EE Times \| ESM Online

RSS 新聞閱讀器

| 意見回饋 | 網站導覽 | 協助 | 關於我們 | 隱私政策 | 聯繫我們 | 使用條款 | 安全承諾
Copyright © 2008 eMedia Asia Ltd. 本網站所有內容均受版權保護。
未經版權所有人明確的書面許可，不得以任何方式或媒體翻印或轉載本網站的部分或全部內容。.