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[ 2008年7月7日 ]

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新研發光學天線可提升QC雷射掃瞄儀之解析度

QC雷射器的共同發明人──美國哈佛大學(Havard)教授Federico Capasso，設計出了一種光學天線，透過以奈米級的精密度對雷射光點(laser’s spot)聚焦，可以使QC雷射器執行次微米(submicron)等級的掃描。

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