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著眼32奈米製程 NIST試圖改善光阻劑配方
現在美國國家標準和技術研究院(NIST)已經發明了一項技術使用中子束來使半導體製造商可以清楚的修整曝光物質和不需要曝光的微影膠中間的奈米級介面。
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