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非光學晶圓檢測緩解先進製程良率問題
作者:鄧榮惠

一家晶圓檢測設備供應商Qcept Technologies可能已經為自90奈米以降，在先進製程中所面臨的最大挑戰──製程變異問題──找到了初步的解決方案。該公司聲稱，透過其自行開發的ChemetriQ缺陷偵測技術與缺陷檢測系統，將可望緩解對半導體良率帶來關鍵挑戰的非光學可視性(non-visual defects，NVD)檢測問題。

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