| IBM宣佈取得32奈米High-K金屬閘極製程進展 |
|
IBM及其技術聯盟廠商，包括英飛凌(Infineon)、意法半導體(ST)、特許半導體(Charter Semiconductor)、飛思卡爾(Freescale)、三星(Samsung)和東芝(Toshiba)日前宣佈，已在IBM位於美國紐約州East Fishkill的300mm晶圓廠，成功展示了32nm High-K金屬閘極製程技術，號稱可提供在性能與耗電上超越其他同業的解決方案。
請登陸網站閱讀全文>> |
| |
|
 |
| 如果您已經是電子工程專輯旗下網站的註冊用戶，請使用您原有的註冊帳號登入，無須再次註冊 |
|
|
|
|
|
|
.gif){kind=spacer}
