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| 2012-04-30 | 明導準備開放BridgePoint UML編輯器 明導國際(Mentor Graphics)日前宣佈，正計劃將 BridgePoint xtUML 環境前端 UML 編輯器公開至開放原始碼領域。這項行動希望能讓系統設計社群更廣泛地存取完整 UML 編輯功能，以推動可執行(executable)與可轉譯(translatable)模型驅動(model-driven)開發的進展。 |
| 2012-03-13 | Frontline推出InSolver新阻抗運算軟體 奧寶科技(Orbotech)與 Mentor Graphics共同投資的Frontline PCB Solutions宣佈推出一款極具成本效益的全新 PCB 阻抗運算軟體── InSolver。憑藉 Mentor Graphics HyperLynx 的技術支援，快速而精準的 InSolver能廣泛支援一系列 PCB 結構的疊層和阻抗模型，不僅成為 Frontline 工程解決方案 InPlan 的嵌入式阻抗運算軟體，也可作為工程師、QA和業務部門獨立使用的阻抗運算平台。 |
| 2012-02-16 | 明導國際發佈HyperLynx 8.2版重要新增功能 明導國際(Mentor Graphics)推出 HyperLynx 分析套件8.2版，可為最佳化印刷電路板(PCB)設計提供重要的新增功能，包括 3D 全波場解算(full-wave field solving)、以及整合式熱傳/電源協同模擬分析功能。要分析目前的 multi-GHz SERDES 通道互連，例如 PCIe-Gen 3 ，需要特殊的 3D 建模，才能進行正確的訊號完整性分析。 |
| 2012-02-08 | EDA工具跟上3D IC設計步伐 對晶片微縮即將面臨終點的疑慮激發了整個晶片產業對3D IC的渴望。但在將來自各個不同供應商，甚至採用不同製程的晶粒堆疊起來的過程中，仍然充滿了變數與挑戰，而EDA供應商明導國際(Mentor Graphics)表示，針對3DIC最重要的驗證與測試方面，已經能提供完整的解決方案了。 |
| 2011-11-16 | 奧寶科技推出最新PerFix 200自動化光學修復系統 奧寶科技(Orbotech Pacific Ltd.)宣佈推出最新的 PerFix 200 自動化光學修復(AOR)系統，為 PCB 生產商提供更快速修復短路及殘銅的解決方案。此外，奧寶科技與Mentor Graphics共同投資的 Frontline PCB Solutions 並宣佈售出超過一百套供 HDI 及 IC 封裝產線使用的 InCAM 解決方案，為去年該產品安裝套數的兩倍。 |
| 2011-10-18 | 明導嵌入式工具支援富士通FM3系列微控制器 富士通半導體歐洲公司(Fujitsu Semiconductor Europe)和明導國際(Mentor Graphics)共同宣佈，富士通已選用明導嵌入式 Sourcery CodeBench for ARM EABI (嵌入式應用二進位介面)產品，以支援富士通的 FM3 Cortex-M3 微控制器和硬體評估板。 |
| 2011-10-14 | 明導國際與台積電在65奈米製程密切合作 明導國際(Mentor Graphics)將與台積電(TSMC)共同合作，從台積電的 65奈米製程節點開始，支援 Calibre YieldEnhancer 產品中的 SmartFill 功能； SmartFill 解決方案的分析與自動化填充(filling)功能，可讓設計人員無需以手動客製化或修改，就能在對電路效能衝擊最小的情況下，達成IC填充限制。 |
| 2011-09-23 | GLOBALFOUNDRIES與多家EDA大廠聯手推出20奈米設計服務 格羅方德半導體(GLOBALFOUNDRIES )宣布了該公司 20奈米製程的一項重大的進展，該公司利用電子設計自動化(EDA)領導廠商如 Cadence Design Systems、Magma Design Automation、 Mentor Graphics、與Synopsys)的流程，已成功產出測試晶片。格羅方德半導體表示已準備就緒讓顧客評估該公司的20奈米設計。 |
| 2011-08-31 | GlobalFoundries試製20nm測試晶片 GlobalFoundries 日前試產了 20nm 測試晶片，該晶片採用 Cadence, Magma, Mentor Graphics 和 Synopsys 的設計工具。此次試製的測試晶片使用了雙重圖形(Double Patterning)，每家 EDA 合作夥伴都提供了大量的佈局和佈線設計。 |
| 2011-08-05 | 明導CEO：晶圓代工恐供過於求 儘管2011年全球半導體銷售收入預計將成長7.2%，但Mentor Graphics CEO Walden Rhines警告道，你得注意2012年是否仍能維持此一成長態勢。IHS iSuppli 發佈的修正版預測指出，全球半導體銷售收入在2011年將從前一年的3,041億美元上升到3,259億美元。該機構在今年4月發佈的預測稱今年晶片銷售收入須計成長7%。 |
| 2011-08-03 | ST在SPEAr處理器中整合明導的Inflexion介面技術 意法半導體(STMicroelectronics, ST)宣佈，已在基於 ARM 核心技術的結構化處理器強化型架構 (Structured Processor Enhanced Architecture, SPEAr)處理器系列之中，整合明導國際(Mentor Graphics)的Mentor Embedded Inflexion使用者介面軟體，未來將為目標嵌入式控制應用實現差異化的動態2D和3D使用者介面，包括電腦週邊、通訊及工業自動化等應用市場。 |
| 2011-05-04 | Mentor在台積電參考流程11版擴充低功率驗證功能 Mentor在台積電參考流程11版擴充低功率驗證功能 |
| 2011-05-03 | 明導國際全新Calibre RealTime提供立即簽核驗證功能 明導國際 (Mentor Graphics)正式推出新的 Calibre RealTime 平台，讓設計在建立階段即能實現具簽核品質的實體驗證。此新版軟體可在 SpringSoft Laker 自訂IC設計和佈局解決方案中，利用與 Calibre 平台相同的簽核流程，提供立即的設計規則檢查(DRC)功能。 |
| 2011-03-16 | 飛思卡爾與Mentor共推結合i.MX與Inflexion UI的技術協議 飛思卡爾與Mentor共推結合i.MX與Inflexion UI的技術協議 |
| 2011-03-16 | 思源、明導合作整合Laker 與Calibre RealTime系統 思源科技(SpringSoft)日前發表其具備全新 sign-off 導向佈局流程的 Laker 客製化佈局軟體，而明導國際(Mentor Graphics)也同步發表全新 Calibre RealTime 平台。思源並表示將整合 Calibre RealTime 至 Laker 系統，提供在 Laker OpenAccess (OA)佈局環境中的即時設計規範檢查(DRC)功能，實現在設計建立時的sign-off品質實體驗證。 |
| 2011-03-14 | Mentor協助聯發科、威盛與富士通提升設計驗證效率 Mentor協助聯發科、威盛與富士通提升設計驗證效率 |
| 2011-02-23 | 新思科技VCS解決方案開始支援OVM與UVM規格 新思科技(Synopsys)宣佈，其VCS解決方案開始支援OVM與UVM規格，該公司日前發佈其驗證 FastForward計畫，此計畫可協助 Cadence Incisive 及 Mentor Graphics Questa 使用者移轉至更迅速的 VCS 功能性驗證解決方案。 |
| 2011-01-06 | 明導：下一代EDA工具將帶來革命性改變 隨著結合類比與混合訊號的設計複雜度不斷提升，加上導入先進製程節點的變異性不斷提高，Mentor Graphics指出，這些都可能危及混合訊號晶片的良率、性能和生命週期。未來五年內，晶片設計領域需要提出全新的技術和方法學，以因應這些變革。 |
| 2010-05-25 | 明導協同ST推動20nm晶片技術 稍早前，明導國際(Mentor Graphics)宣佈加入意法半導體(ST)一項名為Nano 2012 DeCADE的計劃，並表示，將共同就先進製程的SoC開發展開廣泛合作，推動晶片設計技術從32nm前進到20nm及更先進製程節點。 |
| 2010-03-16 | 明導推出半導體熱特性分析與設計系統FloTHERM IC 明導國際(Mentor Graphics)宣佈FloTHERM IC上市，這是一套定位於半導體產業產品之熱特性定義與設計而生的研發利器。針對目前晶片設計日趨複雜，晶片密度更高與高效能的需求，FloTHERM IC透過一個獨特的網路平台，提供高層次的自動化設計任務與全方位熱特性定義和驗證。 |
| 2010-03-15 | 明導Eldo協助實現最佳化標準元件特性分析流程 明導國際(Mentor Graphics)宣佈，韓國的成功科技創新者Dongbu HiTek已採用Eldo類比電路模擬器設立標準元件庫特性分析(cell library characterization)流程。 |
| 2010-01-20 | 明導PERC工具協助IC設計客戶提升可靠度 明導國際(Mentor Graphics)表示，該公司的IC設計用可程式電子規則檢查工具(PERC)──Calibre PERC產品，已獲安森美半導體(ON Semiconductor)和智原科技(Faraday Technology)採用。 |
| 2010-01-13 | 明導國際電源完整性解決方案獲德國控創集團採用 明導國際(Mentor Graphics)宣佈，德國控創集團(Kontron)已將該公司所部署的明導國際Expedition EnterprisePCB，擴展到明導國際對於信號和電源完整性解決方案HyperLynx的全球使用。 |
| 2009-11-02 | 飛思卡爾與Mentor共推嵌入式Android OS研發 飛思卡爾與Mentor共推嵌入式Android OS研發 |
| 2009-10-16 | Mentor宣佈收購以色列PCB設計軟體供應商Volar Mentor宣佈收購以色列PCB設計軟體供應商Volar |
| 2009-09-16 | 明導國際擴大支援台積電Reference Flow 10.0 明導國際(Mentor Graphics)表示已經擴大台積電(TSMC) Reference Flow 10.0中包含的全套Mentor工具與技術，並在Mentor Custom IC設計流程產品中支援TSMC可相互操作製程設計套件(interoperable process design kit，iPDK)。 |
| 2009-09-14 | Mentor晶片測試方案獲聯電65/40奈米製程認證 Mentor晶片測試方案獲聯電65/40奈米製程認證 |
| 2009-09-09 | Mentor「EDA Tech Forum」探討先進設計技術 Mentor「EDA Tech Forum」探討先進設計技術 |
| 2009-09-08 | 明導發表支援iDRC與iLVS的Calibre新版本 明導國際(Mentor Graphics)宣佈，其Calibre nmDRC與nmLVS陣容現可支援台積電(TSMC)導入具互通性作業iDRC與iLVS格式。TSMC與明導國際合作開發這些獨立於供應商既有的格式，以供描述實體驗證以及電路與佈局比較(LVS)。 |
| 2009-08-11 | ARM快速模型計劃成員再添三EDA大廠 ARM日前宣佈，CoWare、Mentor Graphics及Synopsys Inc.已加入ARM的快速模型計劃(Fast Models Enablement Program)。該計劃成員可將已通過完整認證的ARM處理器快速模型系統，整合進自己的虛擬平台環境中並供貨給客戶，以確保雙方客戶無論採用哪一種設計流程，皆可建立完整的ARM Powered虛擬平台。 |
