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TSMC浸潤式曝光顯影技術即將邁入量產

上網時間: 2006年02月24日  打印版  Bookmark and Share 訂閱   字型大小:  

關鍵字:台積電  TSMC  浸潤式曝光顯影技術  測試  晶片 

[摘要提示] 台積電(TSMC)近日表示,該公司浸潤式曝光顯影技術所產出的測試晶片,已相當符合量產所要求的參數標準,並計劃將於45奈米製程採用浸潤式曝光顯影技術。台積電在美國加州聖荷西所舉行的SPIE Microlithography研討會中發表這項成果,同時指出透過該公司專有的技術,浸潤式曝光顯影成功產出多批測試晶片,單片晶片上的晶片缺陷最低的僅有3個,達到幾乎零缺......
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