日本光學大廠Nikon日前對荷蘭半導體設備廠ASML及其鏡頭供應商Carl Zeiss提起法律訴訟,要求在德國、日本和荷蘭的法院裁定禁止ASML銷售浸潤式微影系統並尋求損壞賠償。根據路透社(Reuter)報導,這是自去年底長期的專利糾紛談判陷入僵局後Nikon所採取的最新行動。

在荷蘭,Nikon針對ASML侵權的11項歐洲專利中的每一項發佈個別訴訟案。其中的一件訴訟案在德國曼海姆(Mannheim)還引用兩項歐洲專利;德國曼海姆正是Zeiss為ASML製造光學元件之處。此外,Nikon還在東京地方法院主張兩項針對ASML的日本專利。

Nikon總裁兼代表處主任Kazuo Ushida表示:「我們堅信ASML未經授權使用了Nikon專利的最先進技術,包括浸潤式微影技術,這使得ASML得以擴展其微影業務。」

ASML執行長Peter Wennink則指出:「Nikon提起的訴訟毫無根據且不必要,徒增半導體產業的不確定性。過去幾年來,ASML已經多次嘗試與Nikon協商延長交叉授權協議,但Nikon並未認真與我們協商,而是選擇了採取法律行動。」

今年1月,ASML發佈2016年營收達到67.95億歐元(約73.7億美元)的新高記錄。Nikon則宣稱其浸潤式進器專利的銷售約有35億歐元(38億美元)。

兩家公司之間的糾紛可追溯到2001年12月,當時Nikon在美國提起侵權訴訟。Nikon、ASML和Zesis在2004年在部份專利上達成合解,授權期限在 2009 年到期。

雙方協議其專利過渡期在2014 年底到期。Nikon稱在2010年開始嘗試與ASML和Zesis重新談判新的協議。

市場調查公司VLSI Research總裁G. Dan Hutcheson表示:「奇怪的是這兩家公司怎麼會糊塗到忘記簽授權協議?我很驚訝ASML居然讓事情進展到這一步,因為它們一點也不缺現金。」

「Nikon是1990年代初微影系統的領導廠商,市佔率超過60%。它是第一家公開研究當今浸潤式技術的公司之一。然而,Nikon選擇繼續在日本發展,而ASML則採取與晶片製造商及其晶圓廠合作的方式獲得了成功。」

根據VLSI Research的調查報告,目前,ASML在微影市場的市佔率達到84%,浸潤式步進器佔93%,遠遠地將位居市場第二的Nikon拋在後面。Nikon在全球微影市場中僅佔9%。

Hutcheson說:「所以發生這起訴訟並不奇怪,Nikon正努力地嘗試拿回一些他們在浸潤式技術研發的投資報酬。」

(參考原文:Nikon Renews Patent Battle with ASML,by Rick Merritt)