荷蘭微影業者ASML NV的高層主管在日前表示,隨著業界持續朝著量產部署經常被延遲的下一代微影技術目標邁進,該公司預計明年將出貨20至24套極紫外光(EUV)微影工具。

ASML總裁兼執行長Peter Wennink在發佈該公司第一季財報後告訴分析師,該公司持續朝向其每小時生產125片晶圓、90%光源可用性的EUV目標進展。Wennink提到英特爾(Intel)、三星(Samsung)和台積電(TSMC)在近期舉行的SPIE先進微影會議(SPIE Advanced Lithography Conference)上所進行的簡報,展示其使用EUV系統的最新成果以及EUV基礎設施現況。

Wennink說:「雖然目前仍在諸如光罩護膜(pellicle)等方面仍待完善,但依客戶所指出的時間表來看,導入EUV似乎沒有太大的障礙。」

經過多年來經常令人沮喪和痛苦的緩慢進展後,EUV如今已準備好在未來幾年內投入生產了,預計將從7nm節點開始,由英特爾、台積電和三星等公司部署於其生產中;這三家公司都在ASML進行投資,作為客戶投資計畫的一部份,協助該公司開發相關技術。

ASML在日前表示,該公司目前未交貨的訂單有21台——其最先進的EUV工具NXE:3400B EUV系統,預計將在今年開始交貨,總價值達23億歐元(約24.6億美元)。ASML還有14套較舊型的3300和3350系統仍在使用中,其中大部分預計將會進行升級。

半導體產業市場觀察機構VLSI Research執行長G. Dan Hutecheson指出,ASML的報告並未提供有關EUV微影技術的新消息。「基本上一切依照計劃進行,」Hutecheson說,「當然,現在的大問題是是否能真的把它放到系統可靠的地方,並使其完全融入生產?這正是現在大家都在做的。」

Wennink表示,尚未出貨的21套系統來自五家獨立客戶的訂單,估計大概就是英特爾、三星、台積電和Globalfoundries。Wennink表示,ASML目前還有兩家EUV客戶即將接單,顯示示其他頂級晶片製造商正緊隨英特爾、台積電和三星之後部署EUV。

「當然,很明顯地,以導入EUV方面來看,英特爾、台積電和三星是『前三大』,而其他公司則明顯緊隨其後,」Wennink說。

ASML在EUV方面的進展是其整體看來強勁成長的季報重點,在銷售和利潤上都超過了分析師的預期。

Wennink在電話會議上說:「今年一開始就是強勁成長的一季,我們預計這一動能將持續全年。」

ASML第一季的銷售淨額為19.4億歐元(約20.8億美元),較上一季成長2%,並較去年同期成長46%。ASML報告其第一季淨利為4.52億歐元(約4.84億美元),較上一季下滑14%,但較去年同期增加了128%。

ASML預計第二季的銷售額可望達到19億歐元到20億歐元之間,略低於分析師預期。