德州儀器攜手台達打造伺服器電源供應器

作者 : TI

德州儀器(TI)宣佈其氮化鎵(GaN)技術和C2000即時微控制器(MCU),輔以台達長期耕耘之電力電子核心技術,為資料中心開發設計高效、高功率的企業用伺服器電源供應器(PSU)。

與採用傳統架構的企業伺服器電源供應器相比,台達研發的伺服器電源供應器功率密度可提高80%,效率提升1%。根據能源與氣候政策公司能源創新(Energy Innovation)的估計,效率每改善1%,等於每座資料中心可節省1百萬瓦(或800戶家庭用電)的總系統成本。

台達為全球客戶提供電源管理與散熱解決方案,同時也是AC-DC、DC-DC與DC-AC電源系統的領導廠商,產品應用範圍廣泛,包括資通訊、電動車充電與工業電源等。TI多年來致力於半導體和電腦相關技術,投入氮化鎵技術的開發、應用已長達十年,更提供C2000微控制器等即時控制解決方案,是台達長期合作的重要夥伴。此次TI利用創新的半導體製程製造矽基氮化鎵(GaN-on-silicon)技術與積體電路,協助台達等公司打造差異化應用,提升全球資料中心電源效率。

在高壓、高功率工業電源應用方面,TI的氮化鎵場效電晶體(FET)整合了快速切換驅動器,以及內部保護與溫度感測功能,可在有限電路板空間內達成更高效能表現。積體電路均通過4千萬小時以上的可靠性測試,及超過5百萬千瓦小時的功率轉換測試,為工程師提供嚴謹可靠性數據,並可以氮化鎵打造體積更小、重量更輕、效率更高的電源系統。

TI C2000即時微控制器與氮化鎵電源解決方案搭配使用可提供多重優勢,例如複雜與時效性處理能力、精確控制、軟體和周邊產品可擴充性等。此外,這些微控制器可支援不同電源設計拓撲與高切換頻率,盡可能提升電源效率,徹底發揮氮化鎵伺服器電源解決方案的潛力。

 

 

 

 

 

加入我們官方帳號LINE@,最新消息一手掌握!

發表評論