CGD第二代GaN產品具穩定耐用性

2023-05-18
作者 Cambridge GaN Devices

Cambridge GaN Devices (CGD)推出第二代的ICeGaN 650V氮化鎵HEMT系列產品,提供領先業界的耐用性、易於使用及最高效率等特色。

H2系列ICeGaN HEMT採用CGD的智慧閘極介面,幾乎消除一般E模式GaN的各種弱點,大幅加強過電壓耐用性、提供更高的抗雜訊閾值,以及提升dV/dt抑制和ESD保護效果。新型650V H2 ICeGaN電晶體與前代裝置相同,是以類似矽MOSFET的方式驅動,無需使用效率不彰的複雜電路,而是採用市面上供應的工業閘極驅動器。

最後H2 ICeGaN HEMT的QG比矽製零件低10倍,QOSS則低5倍,因此H2 ICeGaN HEMT能夠在高切換頻率情況下大幅減少切換損耗,有助於縮減尺寸及重量。這實現了領先同類產品的效率及效能,在SMPS應用中比業界最佳的矽MOSFET整整高出2%。

ICeGaN H2系列採用創新的NL3 (無載及輕載)電路,與GaN開關一同於晶片內建整合,提供創紀錄的低功率損耗。先進的箝位結構搭配整合式米勒箝位(Miller Clamp)電路(同樣內建於晶片),無需使用負閘極電壓,因此可實現真正的零電壓關斷,並提升動態RDS(ON)效能。這類E模式(通常為關閉)單晶片GaN HEMT包含單體整合介面及保護電路,提供無可比擬的閘極可靠度及設計簡易度。最後電流感測功能可減少功率耗散,並可直接與接地連接,實現最佳的冷卻及 EMI。

 

活動簡介

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會中將邀請來自嵌入式設計相關領域的研究人員、代表廠商以及專家,透過專題演講、產品展示與互動交流,從元件、模組到系統,從概念設計到開發工具,深入介紹嵌入式系統設計領域的最新趨勢、創新和關注重點,並深入分享關於嵌入式系統設計的經驗、成果以及遇到的實際挑戰及其解決方案。

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