多重曝光的顏色最佳化考慮因素

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多重曝光的顏色最佳化考慮因素

在先進製程節點中,達到最佳效能與良率都需要超越設計規則的最低要求以最佳化 Layout。任何多重曝光 Layout 都有可通過設計規則檢查 (DRC) 的多種著色配置。然而選擇最佳的著色解決方案可以改善製程良率以及效能極限。瞭解 Calibre Multi-Patterning 自動化著色解決方案及其內建的分析功能,如何大幅簡化最佳著色解決方案的選擇,無論 Layout 複雜度如何。

 

【下載有好禮】完成此份白皮書的下載,即可參與Airpods的贏取。

活動時間:2020年8月5日至9月19日

獲獎名單:將於2020年9月25日公佈

以下白皮書同時參與此【下載有禮】活動,下載篇數越多 ,中獎幾率越大。

Inphi 案例研究:改善數位設計生產力

邏輯驅動式 Layout:實現全晶片環境感知 ESD 驗證

Calibre PERC 進階電壓感知 DRC 提供當今複雜設計所需的極高準確性

5nm 及以下技術節點的多重曝光選擇:SADP、SAQP、SALELE

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