荷蘭半導體設備大廠ASML日前表示,該公司2018年將出貨20套極紫外光(EUV)微影系統,該數量預期在2019年將增加到30套以上。

ASML是在最近發佈的第二季財報中做出以上預估數字,該公司也透露其整體EUV工具銷售業績優於預期,達到約32億美元;ASML執行長Peter Wennink表示,「毛利率比我們的預期略高,反映了我們的深紫外光(DUV)與應用業務的強勁表現,以及EUV獲利進展。」

 ASML執行長Peter Wennink
Peter Wennink

ASML在第二季出貨4套EUV系統,比先前預測的多了1套;Wennink表示這是因為邏輯元件客戶準備要在今年稍晚量產下一代產品。

被視為5奈米以下先進半導體製程重要推手的EUV微影技術終於在遲到數年後邁入量產階段,包括三星(Samsung)、英特爾(Intel)與台積電(TSMC)都打算在明年採用EUV進行量產;不過EUV技術仍存在與光源、良率等方面的挑戰

而ASML表示,該公司現在已經證實能在NXE:3400B系列EUV系統的出貨上,達到超過85%的4週交貨期,並正在執行數個專案以期在2019年達到超過90%的如期交貨。

Wennik還指出,ASML的DUV微影業務持續發展蓬勃,主要來自於記憶體市場需求;他表示該市場至少在今年與2019年仍然需要大量的微影系統。而ASML在2018上半年業績表現亮眼,預期下半年也將維持成長力道,獲利方面的成長可望延續至第三季、第四季。

展望第三季,ASML預期銷售額在27億至28億歐元之間(約為31.5億美元~32.6億美元)。

編譯:Judith Cheng

(參考原文: ASML to Ship 20 EUV Systems in 2018,by Nitin Dahad)