台積電(TSMC)宣佈推出6奈米(N6)製程技術,大幅強化目前領先業界的7奈米(N7)技術,協助客戶在效能與成本之間取得高度競爭力的優勢。同時藉由N7技術設計的直接移轉而達到加速產品上市的目標。

藉由目前試產中的7奈米強效版(N7+)使用極紫外光(EUV)微影技術所獲得的新能力,台積電N6技術的邏輯密度較N7技術增加18%;同時,N6技術的設計法則與台積電通過考驗的N7技術完全相容,使得7奈米完備的設計生態系統能夠被再使用。因此,N6提供客戶一個具備快速設計週期且只需使用非常有限的工程資源的無縫升級路徑,支援客戶採用此項嶄新的技術來達成產品的效益。

台積電N6技術預計於2020年第一季進入試產,提供客戶更多具成本效益的優勢,並且延續7奈米家族在功耗及效能上的領先地位,支援多樣化的產品應用,包括高階到中階行動產品、消費性應用、人工智慧、網通、5G基礎架構、繪圖處理器,以及高效能運算。