事半功倍 – 更準確快速的IV-CV測量方法
NI
研討會介紹
半導體元件和電子器件都需要 IV 與 CV 測量，以提取製造過程的關鍵資訊或驗證器件性能。傳統上，IV 測量使用 SMU， CV 測量使用 LCR 表、電容測量單元(CMU)或阻抗分析儀。測試系統必須用一個整合開關對待測物 (DUT) 的 CV 和 IV 兩種測量結合起來，然而這將使測量精度降低並增加測試時間。
在本次線上研討會中，您將有機會瞭解 NI 最先進的 LCR 儀器，可以將 IV 和 CV 測試集成在一起，同時執行 f-F/f-A 類測量，並瞭解如何將它應用在優化實驗室空間，同時提高 MEMS、超聲波感測器、晶圓參數和 iPD CV/IV 測量精度。隨著設備複雜性的持續快速上升和上市時程的縮短，參加本次研討會探索通過嶄新的儀錶架構優化半導體參數測試並節省成本。
演講專家
周文昊
NI 亞太區半導體業務發展經理
周文昊先生目前擔任 NI 公司亞太區混合信號半導體業務發展經理。對於功率電子、混合信號電路以及高速串列數位設計和測試等領域具有豐富經驗，在電子測試與測量產品研發、銷售和市場推廣方面具有超過二十年的從業經歷。 周文昊先生畢業於哈爾濱工業大學，擁有工學碩士學位。
幸運禮物
報名此線上研討會，即可參加抽獎！ (抽獎頁面將在報名後顯示出來，研討會結束後抽獎活動即關閉)
抽獎活動時間：2022年6月14日-2022年6月30日 上午11:30前
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公司介紹
NI公司於1976年5月在美國德克薩斯州成立，總部設於美國德克薩斯州的奧斯丁市，為納斯達克上市公司（NASDAQ: NATI），在全球有50多個國家設有辦事處，為全球超過35,000家公司提供服務，NI在全球擁有約7000名員工。
40多年來，NI開發了眾多自動化測試和自動化測量系統，助力工程師解決全球最嚴峻的難題。
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